PECVD沉积氮化硅膜的工艺研究

PECVD沉积氮化硅膜的工艺研究

刘志平，赵谡玲, 徐征，等

太阳能学报 ›› 2011, Vol. 32 ›› Issue (1) : 54-59.

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ISSN 0254-0096　CN 11-2082/K

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PECVD沉积氮化硅膜的工艺研究

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刘志平，赵谡玲, 徐征，等. PECVD沉积氮化硅膜的工艺研究 [J]. 太阳能学报. 2011, 32(1): 54-59

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