H<sub>2</sub>流量对直流磁控溅射低温沉积ZnO：Al薄膜结构与性能的影响

H₂流量对直流磁控溅射低温沉积ZnO：Al薄膜结构与性能的影响

赵联波，赖延清，刘芳洋，等

太阳能学报 ›› 2013, Vol. 33 ›› Issue (1) : 28-33.

欢迎访问《太阳能学报》官方网站，今天是

ISSN 0254-0096　CN 11-2082/K

太阳能学报 ›› 2013, Vol. 33 ›› Issue (1) : 28-33.

论文

H₂流量对直流磁控溅射低温沉积ZnO：Al薄膜结构与性能的影响

作者信息 +

文章历史 +

引用本文

导出引用

赵联波，赖延清，刘芳洋，等. H₂流量对直流磁控溅射低温沉积ZnO：Al薄膜结构与性能的影响[J]. 太阳能学报. 2013, 33(1): 28-33

Accesses

Citation

Detail

段落导航

相关文章

/

〈

〉