反应磁控溅射制备带隙可调Si<sub>1-<em>x</em></sub> Ge<sub><em>x</em></sub> 薄膜

反应磁控溅射制备带隙可调Si_1-x Ge_x 薄膜

杨锁龙，刘毅，罗丽珠，等

太阳能学报 ›› 2014, Vol. 35 ›› Issue (9) : 1568-1573.

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ISSN 0254-0096　CN 11-2082/K

太阳能学报 ›› 2014, Vol. 35 ›› Issue (9) : 1568-1573.

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反应磁控溅射制备带隙可调Si_1-x Ge_x 薄膜

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杨锁龙，刘毅，罗丽珠，等. 反应磁控溅射制备带隙可调Si_1-x Ge_x 薄膜[J]. 太阳能学报. 2014, 35(9): 1568-1573

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