反应磁控溅射制备带隙可调Si<sub>1-<em>x</em></sub> Ge<sub><em>x</em></sub> 薄膜

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ISSN 0254-0096　CN 11-2082/K

反应磁控溅射制备带隙可调Si_1-x Ge_x 薄膜

杨锁龙，刘毅，罗丽珠，等

太阳能学报 . 2014, (9): 1568 -1573 .