PECVD SiO<sub>2</sub>-SiN<em><sub>x</sub></em>叠层钝化膜的研究

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ISSN 0254-0096　CN 11-2082/K

PECVD SiO₂-SiN_x叠层钝化膜的研究

韩培育，季静佳，王振交，等

太阳能学报 . 2010, (12): 1549 -1552 .